フォトマスク 業界
フォトマスク(半導体素子製造過程で用いる原板)を製造する企業群
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凸版、DNPの印刷2強が手がける半導体材料「フォトマスク」の課題
凸版印刷、大日本印刷(DNP)は言わずと知れた印刷業界の大手2社だ。この印刷2強が半導体材料で重要な部材を手がけているのはご存知だろうか。半導体製造に欠かせない、フォトマスクと呼ばれる回路形成のための「原版」を両社とも生産しており、このフォトマスク市場では大きな存在感を示している。
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凸版が半導体用フォトマスク事業を分社化、インテグラルが資本参加
凸版印刷は4月1日、会社分割により、半導体用フォトマスク事業を行う新会社「株式会社トッパンフォトマスク(トッパンフォトマスク)」を設立したこと、ならびに独立系投資ファンドのインテグラルを同新会社の出資パートナーとして、株式譲渡契約を締結。凸版印刷とインテグラルの合弁会社として4月1日から事業を開始したことを発表した。 世界的な半導体不足を背景に、半導体メーカー各社は生産能力の増強を進めており...
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Carl Zeissが露光装置向け光学部品工場を増設、フォトマスク研究開発施設も拡張へ
Carl Zeissの子会社で半導体露光装置用光学部品を製造するCarl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology(ZEISS SMT)は、独ヘッセン州ヴェツラーに、DUV露光装置用光学部品の新工場建設を開始したことを発表した。2025年の完成を予定しているという。 ヴェツラーの製造拠点では、過去20年以上にわたってDUV露光装置用光学部品の製...
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半導体・液晶用フォトマスクの投資が活発に
エスケーエレクトロニクスは高精細な中小型液晶パネル用フォトマスクの生産体制を強化する。中小型向けの需要増に対応するほか、仮想現実感(VR)機器で使うフォトマスクなど高付加価値製品のニーズにも対応する。2017年夏までに国内外の工場で、老朽化した描画装置などを入れ替えて歩留まりの改善などを進める。17年9月期に70億円の設備投資を計画する。 設備投資するのは京都工場(京都府久御山町)、滋賀工場...
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半導体フォトマスク、EUV効果で市場大幅拡大
2019年の半導体フォトマスク市場は前年比15%増の4915億円となり、引き続き過去最高を更新したとみられる。19年は半導体市場全体が低迷し設備投資も低調に推移したが、フォトマスク市場に限っては、EUVリソグラフィーの量産工程導入や中国をはじめとする新興企業のデザイン活動が活発化したことで、大きな伸びを見せた。
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旭硝子、半導体フォトマスク原版を増産 最先端7ナノの量産を見据えて
旭硝子は5日、EUV露光用フォトマスクブランクス(EUVマスクブランクス)の供給体制を、グループ会社であるAGCエレクトロニクス において、本年より大幅に増強することを決定したと発表した。
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半導体フォトマスク市場の成長見通しは明るいものに、eBeamが業界調査を実施
電子ビーム技術を基幹とした新しい半導体製造技術の啓蒙と推進に注力する団体である米eBeam Initiativeは9月28日(米国時間)、半導体音マスク分野を中心とした半導体業界関連企業44社を対象としたフォトマスクに関連する調査の結果を公表した。 44社の回答者の主な内訳は、マスクサプライヤが37%、半導体製造装置メーカーが31%、EDA/IPベンダが10%、研究機関が10%、半導体デバイ...
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半導体マスク業界はEUVの実用化でどのように変わっていくのか? (1) フォトマスク産業に関連する42社が答えた現状と今後の展望
eBeam Initiativeは、「2020 Photomask Technology Conference」を開催し、会員企業のフォトマスクメーカーや関連産業および半導体メーカー、研究機関ユーザー42社に対して行ったアンケート結果を発表した。
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「不況知らず」の半導体フォトマスク、微細化・顧客拡大で活況
メモリーを中心に半導体市況が低迷するなか、半導体フォトマスク業界が例外的な成長を見せている。微細化に伴い多重露光工程が増えていることに加え、先端プロセスを採用する顧客数の拡大が市場拡大を後押しする。さらに次世代露光技術であるEUVの実用化も装置・材料業界に追い風を吹かせている。最先端だけでなく、65~28nmなどの旧来プロセス、いわゆる「レガシーノード」も活況を呈しており、外販マスタベンダー...
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半導体フォトマスク市場、2017年は37億ドルに成長
SEMIは、半導体フォトマスクの2017年世界販売額が前年比13%の成長となる37億5000万米ドルであったことを発表した。
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凸版印刷、中国で14nmフォトマスクを生産
凸版印刷は、中国・上海工場に先端フォトマスクの量産に向けた設備投資を行う。2018年度中には14nmフォトマスクの生産を始める計画である。
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韓国勢の出願が増加する韓国でのEUV関連特許、日本勢はフォトマスクで健闘
韓国通商産業資源部傘下の韓国特許庁は11月12日、韓国でロジック半導体製造に続いてDRAM製造でも使われ始めたEUVリソグラフィに関連する特許の過去10年間にわたる出願動向調査結果を発表した。
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半導体フォトマスク市場、2016年は33億米ドル
SEMIは、世界の半導体フォトマスク市場規模を発表した。2016年は33億2000万米ドルとなった。2018年は35億7000万米ドルを予測する。
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特殊コーティングでESD障害を防止するフォトマスク
DICと子会社のトピックは、静電気による放電破壊を防止するフォトマスク「ESD障害対策クロムフォトマスク」を共同開発した。高精細、高精度のクロムマスクに、ESD障害を抑制するための特殊コーティングを施している。


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