半導体製造装置の対中輸出規制、オランダが対象拡大を準備

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• 津田 建二

  News & Chips 国際技術ジャーナリスト

  ・2023年03月09日

  これはオランダが米国からの要求に対して、適用範囲を拡大したのではなくむしろ狭めたことがニュースです。米国がASMLに要求していたのは、DUV（Deep Ultraviolet：遠紫外光）の露光装置に規制をかけていました。単なるDUVだと250nmプロセスノードよりも微細であればDUVを使いますので、ほとんどすべての露光装置が出荷禁止になります。
  そこで、オランダは、DUVの液浸露光装置の輸出を規制することになりました。液浸露光装置は、水による屈折率を利用して微細パターンを描く、最先端の装置の一つです。14/16nmプロセスノードでは欠かせません。つまりプロセスノードで言えば、14/16nmよりも微細な露光装置を規制することになり、ASMLとしては、それ以外のArFやKrFレーザー露光装置やi線/g線のDUV装置なら中国に出せますので、経済的なインパクトは少なくなります。米国も妥協するのではないでしょうか。