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米国、対中半導体規制に追随求める 日本など同盟国に

日本経済新聞
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  • 板谷 俊輔
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    日中ベンチャーキャピタリスト/コンサルタント プロピッカー

    ここ2年、中国の半導体領域は、米国の外圧をバネに
    「脱米化」「国産化」を掲げ、大量の人材・資金の流入
    が見られました(ベンチャー投資でも主要分野の1つに)

    ただ、今回の米国の規制は、いよいよこれまでと違う
    レベルで中国現地にもインパクトを与え始めています

    端的には14nm以下の先端半導体を中国が自力製造する
    道は、この先10年レベルで閉ざされたと言えます
    ・ASML(蘭)によるEUV(露光装置)の供給停止が
     最も大きい要因
    ・DUVはまだ停止されておらず、何とか28nmは可能

    もし次の一手でASML(蘭)、ニコン・キヤノン(日)
    が28nm以上の露光装置の供給も止めることがあると、
    中国の生産可能レベルは一気に28nm→110nmまで
    さらに後退してしまいます
    ・あるいはEDAの供給停止も、同様のレベル感の打ち手
    ※ 厳密にはハードもソフトも中古や海賊版による一定の
     クッションはある

    ただ、そこまでやると世界へのインパクトが大きすぎる
    ため、実際には一定のラインで線引きするのでしょう
    ・線引きのラインは「世界の工場」「世界の市場」は
     許容するが、「世界のR&D拠点」は許容せず??

    現地の声からしても、憎いほど(実際に憎いでしょうが)
    狙い撃ちされている、ということかと思います

    とは言え中国側も逞しいので、こうした制約条件の中、
    やれること(例えばIoTやEVへの影響は限定的?)を
    進めていく気がします

    (参考: 基本情報の整理)
    ・中国半導体業界にとって、特にボトルネックは装置
    ・装置の中でも、最大のネックの1つは「露光」装置
     -「国産化」: SMEE(中)で110nmまで可
     -「脱米化」: ニコン/キヤノン(日)で90~28nm
     -「米国規制下」: ASML(蘭)により~5nmへ
    ・現状ではASMLが14nm以下の提供を停止しているが
     28nm以上の提供は停止していない
     (米国が勧告を出すも従ってはいない)


  • 細川 昌彦
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    明星大学 経営学部教授

    もう少し正確に言えば、昨年来日米欧で対中半導体規制に強化を水面下で話し合って、共同歩調を取ろうとしていた。
    ところが米国の対応のまずさでズルズル時間が経って、米国議会からも突き上げられた。仕方なく米国が単独で規制強化して、日欧に同調を求めることになったのが実態だ。
    急に日欧が同調を求められたかのような報道は誤解を招く。
    すでにある程度用意はしているので、欧州の同調を条件にあとは実施するのみ。


  • 椎名 則夫
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    証券アナリスト

    21世紀版ココム。
    材料メーカー、装置メーカーは中国需要に支えられている面が多い。同線引きするのか?非中国資本の現地工場はどうする?中古は?
    台湾統合に北京を駆り立てることにならないか。


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