キヤノン、500億円で半導体装置新工場 次世代型も開発
日本経済新聞
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キヤノンの露光機ラインナップはi線とKrFに限定されるので、ArF・液浸は既に存在しませんが、どんな最先端プロセスでもデザインルールの緩いレイヤは存在するのでFab建設が続く限り一定の需要は存在します。
Fab建設が活況、かつデザインルールの緩いパワーデバイスの市場も伸びる中で好機と捉えているのかな、と思いました。キヤノンはローエンド側の露光機でシェアが大きく、現在はハイエンドを担うASMLと分野を棲み分けています。
記事ではナノインプリントをEUVの対抗として書いていますが、正直、微細化のレベルと、欠陥の少なさでEUVが圧倒的に有利です。
では、ナノインプリントが使えないかというとそんなことはなく、メモリー分野では有用とおもわれます。ロジックと比べるとEUVほどの微細化と少欠陥は求められず、一方でコスト要求は厳しいからです。