KIST, 日 수출금지 소재 '포토레지스트' 대체 기술 개발

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• Lee Dal-Young

  韓国科学技術研究院(KIST)がレジストを使わずともNano Patterningという技術によって10nm以下の超精密半導体を製造できると発表したとのこと。