米国、対中半導体規制に追随求める 日本など同盟国に
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ここ2年、中国の半導体領域は、米国の外圧をバネに
「脱米化」「国産化」を掲げ、大量の人材・資金の流入
が見られました（ベンチャー投資でも主要分野の1つに）
ただ、今回の米国の規制は、いよいよこれまでと違う
レベルで中国現地にもインパクトを与え始めています
端的には14nm以下の先端半導体を中国が自力製造する
道は、この先10年レベルで閉ざされたと言えます
・ASML（蘭）によるEUV（露光装置）の供給停止が
最も大きい要因
・DUVはまだ停止されておらず、何とか28nmは可能
もし次の一手でASML（蘭）、ニコン・キヤノン（日）
が28nm以上の露光装置の供給も止めることがあると、
中国の生産可能レベルは一気に28nm→110nmまで
さらに後退してしまいます
・あるいはEDAの供給停止も、同様のレベル感の打ち手
※ 厳密にはハードもソフトも中古や海賊版による一定の
クッションはある
ただ、そこまでやると世界へのインパクトが大きすぎる
ため、実際には一定のラインで線引きするのでしょう
・線引きのラインは「世界の工場」「世界の市場」は
許容するが、「世界のR&D拠点」は許容せず？？
現地の声からしても、憎いほど（実際に憎いでしょうが）
狙い撃ちされている、ということかと思います
とは言え中国側も逞しいので、こうした制約条件の中、
やれること（例えばIoTやEVへの影響は限定的？）を
進めていく気がします
（参考： 基本情報の整理）
・中国半導体業界にとって、特にボトルネックは装置
・装置の中でも、最大のネックの1つは「露光」装置
－「国産化」： SMEE（中）で110nmまで可
－「脱米化」： ニコン/キヤノン（日）で90～28nm
－「米国規制下」： ASML（蘭）により～5nmへ
・現状ではASMLが14nm以下の提供を停止しているが
28nm以上の提供は停止していない
（米国が勧告を出すも従ってはいない）もう少し正確に言えば、昨年来日米欧で対中半導体規制に強化を水面下で話し合って、共同歩調を取ろうとしていた。
ところが米国の対応のまずさでズルズル時間が経って、米国議会からも突き上げられた。仕方なく米国が単独で規制強化して、日欧に同調を求めることになったのが実態だ。
急に日欧が同調を求められたかのような報道は誤解を招く。
すでにある程度用意はしているので、欧州の同調を条件にあとは実施するのみ。21世紀版ココム。
材料メーカー、装置メーカーは中国需要に支えられている面が多い。同線引きするのか？非中国資本の現地工場はどうする？中古は？
台湾統合に北京を駆り立てることにならないか。
