キヤノン、500億円で半導体装置新工場 次世代型も開発

コメント

注目のコメント

• 村井 誠

  株式会社アダコテック COO

  ・2022年10月04日

  キヤノンの露光機ラインナップはi線とKrFに限定されるので、ArF・液浸は既に存在しませんが、どんな最先端プロセスでもデザインルールの緩いレイヤは存在するのでFab建設が続く限り一定の需要は存在します。
  
  Fab建設が活況、かつデザインルールの緩いパワーデバイスの市場も伸びる中で好機と捉えているのかな、と思いました。
• 井部 泰輔

  設計開発

  ・2022年10月04日

  キヤノンはローエンド側の露光機でシェアが大きく、現在はハイエンドを担うASMLと分野を棲み分けています。
  
  記事ではナノインプリントをEUVの対抗として書いていますが、正直、微細化のレベルと、欠陥の少なさでEUVが圧倒的に有利です。
  
  では、ナノインプリントが使えないかというとそんなことはなく、メモリー分野では有用とおもわれます。ロジックと比べるとEUVほどの微細化と少欠陥は求められず、一方でコスト要求は厳しいからです。
• 若林 秀樹

  東京理科大学　大学院経営学研究科技術経営(MOT)専攻 教授

  ・2022年10月05日

  NILは、ＮＩＬ
  
  後工程も、これからは、i線くらいは使う