最先端半導体の回路原版、量産工程を開発

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注目のコメント

• Kato Jun

  ユーザベース SPEEDAアナリスト

  ・2020年07月10日

  大日本印刷とベルギーIMEC、EUV用フォトマスクの量産用共同開発。JSRのレジストもだが、露光装置のASML含めて、EUVの研究開発はIMECがコアになっている印象。